淹模版 mask

　　掩模版(mask)简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍(现代光刻机一般都是缩小4倍)后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模(reticle)。

　　掩模版(mask)简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍(现代光刻机一般都是缩小4倍)后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模(reticle)。表1对这两种掩模的不同之处做了对比。目前大型集成电路光刻工艺中使用的都是步进-扫描式光刻机(scanner)，以及与之相配套的倍缩式掩模。在日常交流中，倍缩式掩模仍然被简称为掩模

　　掩模版的制作

　　掩模版本身也是一个维系加工过程。它涉及曝光、显影、刻蚀等工艺过程。掩模的曝光的用扫描激光束完成的。经过曝光显影后的镀铬玻璃板一般经过湿法酸腐蚀去除暴露的铬层，从而形成掩膜图形。这时传统掩模版的制造过程

　　。倍缩式掩模的结构

　　为了保证在不同型号光刻机之间的互用，掩模的结构和几何尺寸都类似的。它的主体是一块152mm*152mm(即)的高质量石英玻璃基板，其厚度是，如图1(a)所示。石英玻璃对深紫外光(≤365mm)有很高的透过率，而且其热膨胀系数只有0.5ppm/℃ (通常玻璃是9.4ppm/℃)。一个铝合金制备的框架被安装在玻璃基板上刻有图形的一侧，铝合金框架高6.1mm、厚2mm，它用于蒙贴保护膜，如图1(c)所示。掩模所有曝光的区域都必须在保护膜的覆盖之下。外界和掩模的机械接触都发生在铝合金框架之外的部分。铝合金框架侧面开有通气孔，以避免曝光、温度变化时形成内外压强差

　　掩模版(mask)样品资料展示：