欢迎访问四川久光科技有限公司官方网站

微透镜陈列元件

新闻分类

产品分类

联系我们

四川久光科技有限公司

联系人:董小春

联系电话:13882237898

电子邮箱:dxc468@126.com

微信号:dxc468

网址:www.microoptics-jgkj.com

公司地址:成都市双流县西南航空港经济开发区工业集中区

衍射光学元件的制作方法,你知道吗?

您的当前位置: 首 页 >> 新闻资讯 >> 技术知识

衍射光学元件的制作方法,你知道吗?

发布日期:2021-11-03 作者: 点击:

【专利摘要】一种衍射光学元件的制作方法,涉及微光学器件的制作。1)在基片上制作金属层;2)涂胶,光刻显影,腐蚀出金属层作为刻蚀掩膜,该金属层直径为微透镜Z外层环带外径;3)按设计厚度刻蚀基片形成Z外层第一个环带;4)第二次涂胶,背面曝光光刻,显影,保留光刻胶,侧向腐蚀步骤2)中的金属层,去除光刻胶;5)正面涂胶,背面曝光显影;6)按设计厚度刻蚀基片形成Z外层第二个环带;7)重复步骤4),直到刻蚀出所有环带,得到具有多台阶的微透镜衍射光学元件。从根本上避免了传统套刻方法制作微透镜带来的不可避免的误差,减少了制作过程中的工艺步骤,降低了难度,同时也为制作其他多台阶器件提供了途径。
【专利说明】一种衍射光学元件的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及微光学器件的制作,尤其是涉及无需套刻对版来制作多台阶微透镜的一种衍射光学元件的制作方法。
【背景技术】
[0002]衍射微透镜阵列的制备是基于传统的折射型微透镜阵列发展起来的,二者的制作工艺具有传承性。衍射微透镜具备多台阶的特性,目前其制作方法大致分为光刻胶加离子刻蚀转移法、束能直写技术以及灰度掩膜技术。但是Z为实用,可靠性Z好的方法当属光刻胶加离子刻蚀转移的方法。
[0003]对于二元微透镜,阶梯形分布的相位近似表达式可以巧妙地克服在加工一个厚度连续变化形状时遇到的困难,并且可以通过一系列二元振幅掩模曝光和图形转印来实现(见 Swanson G J.Binary optics technology: the theory and design of mult1-leveldiffractive optical elements[R].MASSACHUSETTS INST OF TECH LEXINGTON LINCOLNLAB, 1989.)。在光刻工艺中,二元光学元件的位相等级数L和所需的掩模数N之间存在这样的关系:L = 2n。因此制作8相位台阶和16相位台阶微透镜分别需要三块和四块掩模版。实际制作中一般采用三块掩模版,经三次光刻和三次刻蚀技术制造八相位(或八台阶)衍射微透镜阵列,可基本满足要求。微透镜的制作工艺主要包括掩模版的设计和制作,利用光刻技术将所设计的掩模版图形转印到光刻胶上,利用干法刻蚀或湿法刻蚀技术将光刻胶图形高保真地转移到衬底表面,形成所需的浮雕结构。
[0004]随着器件特征尺寸的减小,微透镜环带之间的宽度也随之减小,为了制作高精度的衍射微透镜就必须满足相应的对准精度。常规的套刻工艺中第η块掩膜版和第η-1块掩膜版是严格对准的,环带线条随着器件减小变得越来越精细,细微的套刻误差将导致衍身寸效率大大降低(见 Unno Y.Point-spread function for binary diffractive lensesfabricated with misaligned masks[J].Applied optics,1998,37 (16):3401-3407.)。影响衍射效率的重要因素有三个:纵向刻蚀深度误差,横向对准误差和线宽误差,而横向对准误差对衍射效率影响是Z大的。因而目前一般的光刻精度严重制约了微透镜尺寸继续减小。工艺上迫切需要一种能够摆脱光刻精度限制的方法来制作微透镜。

本文网址:http://www.microoptics-jgkj.com/news/467.html

关键词:衍射光学元件

Z近浏览:

微透镜陈列元件      

热推产品  |  主营区域: 四川 重庆 北京 山东 昆山 吴江 天津 武汉 上海 长春
欢迎给我们留言
请在此输入留言内容,我们会尽快与您联系。
姓名
联系人
电话
座机/手机号码